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第二十條 參與高新技術企業(yè)認定工作的各類機構和人員對所承擔的有關工作負有誠信、合規(guī)、保密義務。違反高新技術企業(yè)認定工作相關要求和紀律的，給予相應處理。第五章 附 則第二十一條 科技部、財政部、稅務總局根據(jù)本辦法另行制定《高新技術企業(yè)認定管理工作指引》。第二十二條 本辦法由科技部、財政部、稅務總局負責解釋。第二十三條 本辦法自2016年1月1日起實施。原《高新技術企業(yè)認定管理辦法》（國科發(fā)火[2008]172號）同時廢止。1、凡經(jīng)認定的高新技術企業(yè)，企業(yè)所得稅稅率由原來的25%降為15%，相當于在原來基礎上降低了40%（詳見08年1月起實行的《企業(yè)所得稅法》二十八條），連續(xù)三年，三年期滿之后可以申請復審，復審通過繼續(xù)享受三年稅收優(yōu)惠。（如年納稅100萬，申報通過當年，即可享受減免40萬的優(yōu)惠，三年就可減免120萬稅收，六年則減免240萬）；新材料在、建設上作用重大。吳中區(qū)網(wǎng)絡高新企業(yè)認證價格網(wǎng)

1、促進企業(yè)科技轉型創(chuàng)新是企業(yè)發(fā)展的根本動力，高新技術企業(yè)認定政策是一項引導政策，目的是引導企業(yè)調整產(chǎn)業(yè)結構，走自主創(chuàng)新、持續(xù)創(chuàng)新的發(fā)展道路，激發(fā)企業(yè)自主創(chuàng)新的熱情，提高科技創(chuàng)新能力。2、提升企業(yè)品牌形象說明負責人具備較強的創(chuàng)新意識、較高的市場開拓能力和經(jīng)營管理水平。說明企業(yè)是國家重點支持的具有高成長性的企業(yè)，具有較好的潛在經(jīng)濟效益。3、享受稅收減免優(yōu)惠政策經(jīng)認定的高新技術企業(yè)，可執(zhí)行15%（認定前25%）的優(yōu)惠稅率，稅率降低10個點，稅額減少40%?；⑶饏^(qū)為什么高新企業(yè)認證如何收費三是在一些技術領域的自主創(chuàng)新往往能引致一系列的技術創(chuàng)新，帶動一批新產(chǎn)品的誕生，推動新興產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。

（三）負責遴選參與認定工作的評審（包括技術和財務），并加強監(jiān)督管理；（四）負責對已認定企業(yè)進行監(jiān)督檢查，受理、核實并處理復核申請及有關舉報等事項，落實領導小組及其辦公室提出的整改建議；（五）完成領導小組辦公室交辦的其他工作。第九條 通過認定的高新技術企業(yè)，其資格自頒發(fā)證書之日起有效期為三年。第十條 企業(yè)獲得高新技術企業(yè)資格后，自高新技術企業(yè)證書頒發(fā)之日所在年度起享受稅收優(yōu)惠，可依照本辦法第四條的規(guī)定到主管稅務機關辦理稅收優(yōu)惠手續(xù)。

3、集成電路封裝技術小外型有引線扁平封裝（SOP）、四邊有引線塑料扁平封裝（PQFP）、有引線塑封芯片載體（PLCC）等高密度塑封的大生產(chǎn)技術研究，成品率達到99%以上；新型的封裝形式，包括采用薄型載帶封裝、塑料針柵陣列（PGA）、球柵陣列（PBGA）、多芯片組裝（MCM）、芯片倒裝焊（FlipChip）、WLP（Wafer Level Package），CSMP（Chip Size Module Package），3D（3 Dimension）等封裝工藝技術。、集成電路測試技術集成電路品種的測試軟件，包括圓片（Wafer）測試及成品測試。芯片設計分析驗證測試軟件；提高集成電路測試系統(tǒng)使用效率的軟/硬件工具、設計測試自動連接工具等。企業(yè)創(chuàng)新能力評價應達到相應要求；

5. 企業(yè)職工和科技人員情況說明材料；6. 經(jīng)具有資質的中介機構出具的企業(yè)近三個會計年度研究開發(fā)費用和近一個會計年度高新技術產(chǎn)品（服務）收入專項審計或鑒證報告，并附研究開發(fā)活動說明材料；7. 經(jīng)具有資質的中介機構鑒證的企業(yè)近三個會計年度的財務會計報告（包括會計報表、會計報表附注和財務情況說明書）；8. 近三個會計年度企業(yè)所得稅年度納稅申報表。（二）評審認定機構應在符合評審要求的中，隨機抽取組成組。組對企業(yè)申報材料進行評審，提出評審意見。新材料（或稱先進材料）是指新近發(fā)展或正在發(fā)展之中的具有比傳統(tǒng)材料的性能更為優(yōu)異的一類材料。江蘇如何高新企業(yè)認證費用

一是給予自主創(chuàng)新者的技術壟斷地位和保護，自主創(chuàng)新在技術方面就具有了較強的壁壘。吳中區(qū)網(wǎng)絡高新企業(yè)認證價格網(wǎng)

3、知識和能力的支持是創(chuàng)新成功的內在基礎和必要條件。自主開發(fā)技術的創(chuàng)新模式，主要用于全新創(chuàng)新或重大的突破性技術創(chuàng)新，它需要有很大研究與發(fā)展的投入，必須有較雄厚的技術力量，并有較多的技術積累。在競爭中取得地位時，必須采取這種模式。(二)模式的優(yōu)、缺點自主創(chuàng)新所具有的優(yōu)點對高技術企業(yè)成長具有重要的意義。一是給予自主創(chuàng)新者的技術壟斷地位和保護，自主創(chuàng)新在技術方面就具有了較強的壁壘。二是由于跟進者對新技術的消化、模仿需要一定的時間，發(fā)展成為較強的競爭者也需要一定的過程，因此，自主創(chuàng)新企業(yè)能在一定時期內獨占某項產(chǎn)品或工藝的技術，使自己在競爭中處于有利地位。三是在一些技術領域的自主創(chuàng)新往往能引致一系列的技術創(chuàng)新，帶動一批新產(chǎn)品的誕生，推動新興產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。吳中區(qū)網(wǎng)絡高新企業(yè)認證價格網(wǎng)

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