上海泰晟與您分享半導(dǎo)體行業(yè)用FM4910認(rèn)證PVC

來源：發(fā)布時間：2025-04-24

泰晟供三菱PVC板與您分享CVD設(shè)備在半導(dǎo)體中的應(yīng)用

化學(xué)氣相沉積（CVD）是利用氣相化合物或含有薄膜元素的簡單物質(zhì)在基體表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)形成薄膜涂層的技術(shù)?；瘜W(xué)氣相沉積（CVD）是制備高性能薄膜的一項重要技術(shù)，它具有均勻性好、薄膜覆蓋率高、薄膜質(zhì)量好、涂層純度可控、混合涂層、基體復(fù)雜、涂層粉末、大氣壓或真空條件等特點，而低溫合成化學(xué)氣相沉積（CVD）技術(shù)的材料可以是氣相化合物或單質(zhì)，也可以是幾種氣相化合物或單質(zhì)混合物。常見的材料主要有金屬、合金、碳化物、硅化物、氮化物、氧化物、硫化物、硼化物等。有很多種材料可以使用?；瘜W(xué)氣相沉積技術(shù)可廣闊應(yīng)用于集成電路、半導(dǎo)離體、金屬精煉、光伏電池、高科技陶瓷等制造領(lǐng)域，其中集成電路和半導(dǎo)體是主要的應(yīng)用領(lǐng)域，化學(xué)氣相沉積可分為大氣壓化學(xué)氣相沉積（APCVD）、亞大氣壓化學(xué)氣相沉積（sacvd）、低壓化學(xué)氣相沉積（LPCVD）、超高真空化學(xué)氣相沉積（uhcvd）、快速熱化學(xué)氣相沉積（RTCVD）、等子體增強化學(xué)氣相沉積（PECVD）、高密度等離子體化學(xué)氣相沉積（HDPCVD）、金屬有機化合物化學(xué)氣相沉積（MOCVD）等，PECVD是應(yīng)用非常廣的化學(xué)氣相沉積技術(shù)，在成膜速度、臺階覆蓋率、間隙填充、溫度要求等方面綜合性能突出，隨著我國集成電路和半導(dǎo)體工業(yè)的迅速發(fā)展，其市場占比達(dá)到36%左右，規(guī)模在擴大，技術(shù)在進(jìn)步。薄膜沉積相關(guān)設(shè)備的需求正在迅速增長?；瘜W(xué)氣相沉積是集成電路和半導(dǎo)體領(lǐng)域應(yīng)用非常廣闊的薄膜沉積技術(shù)。因此，我國對CVD設(shè)備的需求正在迅速上升。在此背景下，我國CVD裝備制造企業(yè)開始增多，代表性企業(yè)主要有北華創(chuàng)、沈陽拓景、捷佳偉創(chuàng)、無錫松宇等，我國CVD裝備產(chǎn)業(yè)技術(shù)實力薄弱，市場占比低，而外資企業(yè)占據(jù)主導(dǎo)地位。

業(yè)內(nèi)人士分析，隨著物聯(lián)網(wǎng)、人工智能、工業(yè)自動化的日益普及，我國集成電路、半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)仍在蓬勃發(fā)展，對化學(xué)氣相沉積技術(shù)的需求將繼續(xù)增長。CVD設(shè)備產(chǎn)業(yè)發(fā)展前景良好?，F(xiàn)階段，我國CVD設(shè)備市場主要被國外企業(yè)占領(lǐng)。在未來的發(fā)展中，我國企業(yè)需要不斷提高自己的競爭力，以實現(xiàn)本土化替代。

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