參考圖7),這種殘余物在覆蓋一系列柵極堆棧薄膜之后會(huì)被增強(qiáng)呈現(xiàn),傳遞到柵極成型工序時(shí)會(huì)對柵極圖形產(chǎn)生嚴(yán)重的影響,即在柵極曝光圖形成型之后形成埋層缺陷,在柵極刻蝕圖形成型之后造成柵極斷開或橋接,直接降低了產(chǎn)品良率。另外,在氧氣灰化階段,由于等離子氧可以穿透襯底表面上的氧化層到達(dá)襯底硅區(qū),直接與硅反應(yīng)產(chǎn)生二氧化硅,增加了硅損失,會(huì)影響器件閾值電壓及漏電流,也會(huì)影響產(chǎn)品良率。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:在發(fā)明內(nèi)容部分中引入了一系列簡化形式的概念,該簡化形式的概念均為本領(lǐng)域現(xiàn)有技術(shù)簡化,這將在具體實(shí)施方式部分中進(jìn)一步詳細(xì)說明。本發(fā)明的發(fā)明內(nèi)容部分并不意味著要試圖限定出所要求保護(hù)的技術(shù)方案的關(guān)鍵特征和必要技術(shù)特征,更不意味著試圖確定所要求保護(hù)的技術(shù)方案的保護(hù)范圍。本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種用于包括但不限于半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中,能降低光刻膠去除殘留物的光刻膠剝離去除方法。為解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供的光刻膠剝離去除方法,包括以下步驟:s1,在半導(dǎo)體襯底上淀積介質(zhì)層;可選擇的,淀積介質(zhì)層為二氧化硅薄膜??蛇x的,進(jìn)一步改進(jìn),淀積二氧化硅薄膜厚度范圍為5埃~60埃。s2,旋涂光刻膠并曝光顯影,形成光刻圖形阻擋層。如何選擇一家好的做剝離液的公司。蕪湖京東方用的蝕刻液剝離液批量定制
可選擇的,旋涂光刻膠厚度范圍為1000埃~10000埃。s3,執(zhí)行離子注入:可選擇的,離子注入劑量范圍為1×1013cm-2~1×1016cm-2。s4,采用氮?dú)浠旌蠚怏w執(zhí)行等離子刻蝕,對光刻膠進(jìn)行干法剝離;如背景技術(shù)中所述,經(jīng)過高劑量或大分子量的源種注入后,會(huì)在光刻膠的外層形成一層硬殼即為主要光刻膠層,主要光刻膠層包裹在第二光刻膠層外。使氮?dú)浠旌蠚怏w與光刻膠反應(yīng)生成含氨揮發(fā)性化合物氣體,反應(yīng)速率平穩(wěn),等離子體氮?dú)浠旌蠚怏w與主要光刻膠層、第二光刻膠層的反應(yīng)速率相等。等離子體氮?dú)浠旌蠚怏w先剝離去除主要光刻膠層,參考圖8所示。再逐步剝離去除第二光刻膠層,參考圖9和圖10所示??蛇x的,等離子刻蝕氣體是氮?dú)浠旌蠚怏w,氫氮混合比例范圍為4:96~30:70。s5,對襯底表面進(jìn)行清洗??蛇x擇的,對硅片執(zhí)行單片排序清洗。單片清洗時(shí),清洗液噴淋到硅片正面,單片清洗工藝結(jié)束后殘液被回收,下一面硅片清洗時(shí)再重新噴淋清洗液,清洗工藝結(jié)束后殘液再被回收,如此重復(fù)?,F(xiàn)有的多片硅片同時(shí)放置在一個(gè)清洗槽里清洗的批處理清洗工藝,在清洗過程中同批次不同硅片的反應(yīng)殘余物可能會(huì)污染其他硅片,或者上一批次硅片留在清洗槽的反應(yīng)殘余物可能會(huì)污染下一批次硅片。相比而言。蕪湖天馬用的蝕刻液剝離液銷售廠家蘇州博洋化學(xué)股份有限公司剝離液;
每一所述第二子管道502與所述公共子管道501連通,所述公共子管道501與所述下一級腔室102連通。其中,閥門開關(guān)60設(shè)置在每一子管道301上。在一些實(shí)施例中,閥門開關(guān)60設(shè)置在每一***子管道401及每一所述第二子管道502上。在一些實(shí)施例中,閥門開關(guān)60設(shè)置在每一第二子管道502上。具體的,閥門開關(guān)60的設(shè)置位置可以設(shè)置在連接過濾器30的任意管道上,在此不做贅述。在一些實(shí)施例中,請參閱圖4,圖4為本申請實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺100的第四種結(jié)構(gòu)示意圖。第二管道50包括多個(gè)第三子管道503,每一所述第三子管道503與一子過濾器連通301,且每一所述第三子管道503與所述下一級腔室連通102。其中,閥門開關(guān)60設(shè)置在每一第三子管道503上。本申請實(shí)施例提供的剝離液機(jī)臺,包括:依次順序排列的多級腔室、每一級所述腔室對應(yīng)連接一存儲(chǔ)箱;過濾器,所述過濾器的一端設(shè)置通過管道與當(dāng)前級腔室對應(yīng)的存儲(chǔ)箱連接,所述過濾器的另一端通過第二管道與下一級腔室連接;其中,至少在管道或所述第二管道上設(shè)置有閥門開關(guān)。通過閥門開關(guān)控制連接每一級腔室的過濾器相互獨(dú)立,從而在過濾器被阻塞時(shí)通過閥門開關(guān)將被堵塞的過濾器取下并不影響整體的剝離進(jìn)程,提高生產(chǎn)效率。
該方法包括:步驟110、將多級腔室順序排列,按照處于剝離制程的剝離基板的傳送方向逐級向剝離基板提供剝離液;步驟120、將來自于當(dāng)前級腔室經(jīng)歷剝離制程的剝離液收集和存儲(chǔ)于當(dāng)前級腔室相應(yīng)的存儲(chǔ)箱中,所述剝離液中夾雜有薄膜碎屑;步驟130、使用當(dāng)前級腔室相應(yīng)的過濾器過濾來自當(dāng)前級腔室的剝離液并將過濾后的剝離液傳輸至下一級腔室;步驟140、若所述過濾器被所述薄膜碎屑阻塞,則關(guān)閉連接被阻塞的所述過濾器的管道上的閥門開關(guān);步驟150、取出被阻塞的所述過濾器。若過濾器包括多個(gè)并列排布的子過濾器,則可以關(guān)閉被阻塞的子過濾器的閥門,因此,步驟140還可以包括:若所述過濾器包括多個(gè)并列排布的子過濾器,則關(guān)閉連接被阻塞的所述子過濾器的管道上的閥門開關(guān)。在上述實(shí)施例中,對各個(gè)實(shí)施例的描述都各有側(cè)重,某個(gè)實(shí)施例中沒有詳述的部分,可以參見其他實(shí)施例的相關(guān)描述。以上對本申請實(shí)施例進(jìn)行了詳細(xì)介紹,本文中應(yīng)用了具體個(gè)例對本申請的原理及實(shí)施方式進(jìn)行了闡述,以上實(shí)施例的說明只是用于幫助理解本申請的技術(shù)方案及其思想;本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解:其依然可以對前述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改,或者對其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換。剝離液可以用在哪些制程段上;
需要說明的是,本發(fā)明剝離液中,推薦*由上述成分構(gòu)成,但只要不阻礙本發(fā)明的效果,可以含有例如聚氧化烯烷基醚系、硅系的消泡劑等其它成分。以上說明的本發(fā)明剝離液可以通過將上述成分溶于水中來制備。需要說明的是,本發(fā)明剝離液的ph若為堿性則沒有特別限定,但通常**將上述成分溶于水就成為堿性,因此沒有特別必要調(diào)整ph。另外,本發(fā)明剝離液可以通過將上述成分分別分開預(yù)先溶于水,成為抗蝕劑的剝離液套件,將它們混合來制備。具體來說,可以舉出以包含含有鉀鹽的第1液和含有溶纖劑的第2液為特征的抗蝕劑的剝離液套件、其中還包含含有硅酸鹽的第3液的抗蝕劑的剝離液套件、進(jìn)而在其中使上述其它成分適當(dāng)含有于各液中的抗蝕劑的剝離液套件等。通過使用本發(fā)明剝離液對施加有抗蝕劑的基材進(jìn)行處理,抗蝕劑被細(xì)小地粉碎。鋁剝離液的配方是什么?江蘇顯示面板用剝離液批量定制
剝離液的發(fā)展趨勢如何。蕪湖京東方用的蝕刻液剝離液批量定制
本申請涉及半導(dǎo)體工藝技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種剝離液機(jī)臺及其工作方法。背景技術(shù):剝離(lift-off)工藝通常用于薄膜晶體管(thinfilmtransistor)制程中的光罩縮減,lift-off先形成光阻并圖案化,再在光阻上成膜,移除光阻的同時(shí),沉積在光阻上的膜層也被剝離,從而完成膜層的圖形化,通過該制程可以實(shí)現(xiàn)兩次光刻合并為一次以達(dá)到光罩縮減的目的?,F(xiàn)有技術(shù)中,由于光阻上沉積了薄膜(該薄膜材料可以為金屬,ito(氧化銦錫)等用于制備tft的膜層),在剝離光阻的同時(shí)薄膜碎屑被帶入剝離液(stripper)中,大量的薄膜碎屑將會(huì)導(dǎo)致剝離液機(jī)臺中的過濾器(filter)堵塞,從而導(dǎo)致機(jī)臺無法使用,并且需要停止所有剝離液機(jī)臺的工作,待將filter清理后再次啟動(dòng),降低了生產(chǎn)效率。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本申請實(shí)施例提供一種剝離液機(jī)臺及其工作方法,可以提高生產(chǎn)效率。本申請實(shí)施例提供一種剝離液機(jī)臺,包括:依次順序排列的多級腔室、每一級所述腔室對應(yīng)連接一存儲(chǔ)箱;過濾器,所述過濾器的一端設(shè)置通過管道與當(dāng)前級腔室對應(yīng)的存儲(chǔ)箱連接,所述過濾器的另一端通過第二管道與下一級腔室連接;其中,至少在所述管道或所述第二管道上設(shè)置有閥門開關(guān)。在一些實(shí)施例中。蕪湖京東方用的蝕刻液剝離液批量定制